Saphir 250 M2雙盤手動研磨拋光機

Saphir 250 M2雙盤手動研磨拋光機

1.照明屏幕的開/關按鈕和有刻度的旋鈕可實現直觀的操作。

2.清潔循環功能Cleaning Boost)有助於在準備過程結束後3秒鐘內以750 rpm的速度乾燥拋光和拋光介質,然後關閉設備。

3.雙盤研磨拋光機,具有研磨及拋光兩種功能

4.磁性拋光系統,可以快速更換拋光盤

5.具有Spin Cycle功能,可以快速清潔研磨盤面

6.盤面可以順時針或逆時針旋轉

7.最新設計的研磨盤,單點固定盤面,方便固定及取下

8.最新設計防濺環,耐撞擊效果佳

9.鋁合金外殼,粉體烤漆

盤面尺寸

Ø 200/250 mm

盤面轉速

30 - 600 rpm, 連續式可調

x x

901 x 265 x 710 mm

進水源

1x fresh water connection R½" max. 6 bars

自動滴液系統 (選配)

Topas M

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